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賽默飛（Thermo Fisher Scientific）FLASH 2000 CHNS 元素分析儀是一款高精度、多功能的有機(jī)元素分析系統(tǒng)，用于測(cè)定固體、液體或半固體樣品中的碳（C）、氫（H）、氮（N）和硫（S）含量。該儀器廣泛應(yīng)用于化學(xué)、環(huán)境、食品、制藥、地質(zhì)、能源及材料科學(xué)等領(lǐng)域。
FLASH 2000 CHNS 采用動(dòng)態(tài)燃燒法（Dynamic Flash Combustion）原理，樣品在高溫下快速燃燒生成混合氣體，經(jīng)還原、分離和檢測(cè)步驟后完成定量分析。儀器系統(tǒng)設(shè)計(jì)模塊化、結(jié)構(gòu)緊湊，具備高靈敏度、良好重復(fù)性與自動(dòng)化控制能力。
本文將系統(tǒng)介紹 FLASH 2000 CHNS 的主要組成部分、工作原理、功能特點(diǎn)及各子系統(tǒng)的協(xié)同關(guān)系，為用戶提供全面的結(jié)構(gòu)認(rèn)識(shí)和技術(shù)參考。
FLASH 2000 CHNS 系統(tǒng)由以下七大模塊組成：
自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)（Autosampler）
燃燒系統(tǒng)（Combustion Unit）
還原系統(tǒng)（Reduction Unit）
氣體分離與吸附系統(tǒng)（Separation and Adsorption Unit）
檢測(cè)系統(tǒng)（Detection Unit）
氣體供應(yīng)系統(tǒng)（Gas Supply Unit）
控制與數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)（Control and Data Processing Unit）
每個(gè)模塊相互連接、協(xié)同運(yùn)行，形成完整的分析回路。以下將對(duì)各部分結(jié)構(gòu)與功能進(jìn)行詳細(xì)說明。
自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)由樣品托盤、進(jìn)樣臂、推桿機(jī)構(gòu)、樣品墜落管以及控制電機(jī)組成。標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)可容納 125 個(gè)樣品位，支持錫杯封裝樣品的自動(dòng)投送。
在分析前，樣品由機(jī)械臂抓取并準(zhǔn)確放置于進(jìn)樣口。隨后推桿將樣品推入燃燒管上部的石英舟內(nèi)，樣品立即進(jìn)入高溫燃燒區(qū)完成氧化反應(yīng)。
高精度定位系統(tǒng)確保進(jìn)樣誤差小于 0.1 mm；
可編程序列運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)無人值守批量分析；
兼容固體、液體和粉末樣品；
全封閉結(jié)構(gòu)，避免樣品交叉污染。
定期清潔樣品托盤與導(dǎo)軌；
檢查推桿潤(rùn)滑狀況；
保持機(jī)械臂無異物阻塞。
燃燒系統(tǒng)包括燃燒管（Quartz Combustion Tube）、電加熱爐（Furnace）、燃燒墊、氧化銅填料（CuO）、助燃劑及氧氣脈沖控制裝置。
樣品進(jìn)入燃燒管后，在約 950–1050°C 的高溫下與氧氣瞬間反應(yīng)，生成 CO?、H?O、NO? 及 SO? 等氣體產(chǎn)物。燃燒管內(nèi)部填充氧化銅，用于進(jìn)一步氧化中間產(chǎn)物（CO、H?、H?S、NO）。
燃燒反應(yīng)方程式示例如下：
碳：C + O? → CO?
氫：2H? + O? → 2H?O
硫：S + O? → SO?
氮：N → NO?（后續(xù)還原為 N?）
快速燃燒技術(shù)（Flash Combustion）提高氧化效率；
氧氣脈沖系統(tǒng)控制燃燒強(qiáng)度，防止樣品飛濺；
高純石英管耐高溫、抗腐蝕；
內(nèi)置溫度控制單元，溫度波動(dòng) ≤±1°C。
定期更換燃燒墊與氧化銅填料；
清理燃燒殘?jiān)?，保持氣流通暢?/p>
檢查氧氣流量與脈沖時(shí)間是否準(zhǔn)確。
還原系統(tǒng)由還原管（Reduction Tube）、還原填料（銅屑 Cu）、加熱爐與恒溫控制器組成。
燃燒生成的混合氣體經(jīng)還原管，在約 650°C 的高溫環(huán)境中，氧化性氣體（NO?、SO? 等）被還原為 N?、SO? 等穩(wěn)定形式。此過程還可吸收多余氧氣，保證氣體混合物成分穩(wěn)定。
主要反應(yīng)如下：
2NO → N? + O?
NO? + 2CO → N? + 2CO?
銅填料可重復(fù)還原再生；
恒溫加熱保證反應(yīng)徹底；
降低檢測(cè)器負(fù)荷，改善信號(hào)穩(wěn)定性。
銅屑表面變黑或氧化后應(yīng)更換；
保持還原管氣密性，防止空氣倒灌；
定期驗(yàn)證還原效率。
該系統(tǒng)包括干燥柱、吸附柱、分離柱及溫控單元。典型配置如下：
捕水柱（Water Trap）：吸附 H?O；
吸附柱（Absorber）：去除多余氣體雜質(zhì)；
色譜分離柱（GC Column）：分離 CO?、N?、SO? 等氣體成分。
經(jīng)過還原的混合氣體在恒定流速下進(jìn)入分離柱。不同氣體組分因吸附能力差異而按時(shí)間順序依次通過檢測(cè)器，實(shí)現(xiàn)分離檢測(cè)。
高效分離多種氣體成分，峰形對(duì)稱；
保證檢測(cè)信號(hào)分辨率；
吸附柱可再生使用，降低維護(hù)成本。
| 吸附劑名稱 | 作用 | 更換周期 |
|---|---|---|
| 硅膠或分子篩 | 吸附水分與雜質(zhì) | 2–4 周 |
| 五氧化二磷 (P?O?) | 深度脫水 | 4 周 |
| 活性炭或氧化鋁 | 吸附雜氣 | 1–2 月 |
FLASH 2000 CHNS 采用 熱導(dǎo)檢測(cè)器（Thermal Conductivity Detector, TCD），利用不同氣體導(dǎo)熱系數(shù)差異實(shí)現(xiàn)定量檢測(cè)。
檢測(cè)器由兩個(gè)電橋臂組成，一臂通載氣（參比），另一臂通分析氣。不同氣體導(dǎo)熱系數(shù)變化引起電橋不平衡，產(chǎn)生電壓信號(hào)，經(jīng)放大與積分計(jì)算得出峰面積。
| 項(xiàng)目 | 參數(shù) |
|---|---|
| 檢測(cè)靈敏度 | ≤0.01 mg 元素 |
| 信號(hào)噪聲比 | >1000:1 |
| 溫度穩(wěn)定性 | ±0.1°C |
| 響應(yīng)時(shí)間 | <1 秒 |
無需光學(xué)部件，抗干擾能力強(qiáng)；
可同時(shí)檢測(cè)多種氣體；
維護(hù)簡(jiǎn)單、壽命長(zhǎng)。
保持檢測(cè)池清潔干燥；
定期校準(zhǔn)檢測(cè)靈敏度；
防止液體或粉塵進(jìn)入檢測(cè)腔。
FLASH 2000 主要使用兩種高純氣體：
載氣：氦氣（He）
燃燒氣：氧氣（O?）
氣體供應(yīng)系統(tǒng)包括氣瓶、減壓閥、管路、過濾器、流量計(jì)及壓力傳感器。
高壓氣體經(jīng)減壓閥降壓后進(jìn)入儀器內(nèi)部氣路系統(tǒng)。載氣負(fù)責(zé)輸送與分離氣體，氧氣用于燃燒反應(yīng)。系統(tǒng)自動(dòng)控制氣體流量與切換時(shí)間，確保燃燒完全、檢測(cè)穩(wěn)定。
配備防回火裝置與單向閥；
壓力自動(dòng)監(jiān)測(cè)與報(bào)警系統(tǒng)；
氣體過濾單元防止雜質(zhì)進(jìn)入。
| 氣體類型 | 純度（%） | 備注 |
|---|---|---|
| 氦氣 | ≥99.999 | 載氣 |
| 氧氣 | ≥99.999 | 燃燒用氣 |
FLASH 2000 配套軟件為 EagerSmart Data System 或同類控制平臺(tái)。該系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)儀器控制、數(shù)據(jù)采集、峰形分析與結(jié)果計(jì)算。
自動(dòng)點(diǎn)火與溫度控制；
氣體流量與脈沖時(shí)間設(shè)定；
校準(zhǔn)曲線生成與存儲(chǔ)；
自動(dòng)數(shù)據(jù)處理與報(bào)告輸出。
實(shí)時(shí)顯示檢測(cè)信號(hào)與峰形圖；
自動(dòng)積分計(jì)算峰面積；
提供多種統(tǒng)計(jì)分析工具（RSD、偏差、回收率）。
支持 USB、Ethernet 等通信方式；
可與實(shí)驗(yàn)室信息管理系統(tǒng)（LIMS）對(duì)接；
數(shù)據(jù)文件支持多格式導(dǎo)出（CSV、PDF、XLS）。
多用戶分級(jí)權(quán)限控制；
自動(dòng)記錄操作日志；
防止數(shù)據(jù)篡改，滿足實(shí)驗(yàn)室質(zhì)量體系要求。
包括電源模塊、加熱控制器、溫度傳感器與信號(hào)放大器。采用智能PID溫控技術(shù)，確保加熱均勻與溫度精度。
內(nèi)置風(fēng)冷系統(tǒng)維持儀器穩(wěn)定運(yùn)行；
防靜電涂層機(jī)殼保障操作安全；
具備過熱保護(hù)與電源短路保護(hù)功能。
采用抗震結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，減少環(huán)境振動(dòng)對(duì)信號(hào)影響；外殼材料為防腐蝕鋁合金，外觀簡(jiǎn)潔穩(wěn)固。
整個(gè) FLASH 2000 CHNS 的工作過程可分為以下步驟：
樣品進(jìn)樣 → 自動(dòng)進(jìn)樣器將錫杯樣品投入燃燒管；
高溫燃燒 → 樣品與氧氣瞬時(shí)反應(yīng)生成混合氣體；
氣體還原 → 還原管將NO?轉(zhuǎn)化為N?；
除水與吸附 → 干燥柱去除水分和雜質(zhì)；
氣體分離 → 不同氣體經(jīng)分離柱依次通過；
檢測(cè)與積分 → TCD 檢測(cè)信號(hào)并計(jì)算峰面積；
數(shù)據(jù)處理 → 軟件根據(jù)校準(zhǔn)曲線計(jì)算元素含量；
結(jié)果輸出 → 生成報(bào)告、保存數(shù)據(jù)。
整個(gè)過程由計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制，分析周期通常為 5–10 分鐘。
模塊化設(shè)計(jì)：便于維護(hù)與升級(jí)；
快速燃燒技術(shù)：提高樣品氧化效率；
高靈敏檢測(cè)系統(tǒng)：熱導(dǎo)檢測(cè)器確保精確響應(yīng)；
全自動(dòng)化控制：自動(dòng)進(jìn)樣、校準(zhǔn)與數(shù)據(jù)處理；
節(jié)能與安全：優(yōu)化氣體流量與電加熱系統(tǒng)，減少耗材；
穩(wěn)定性高：溫控與氣路雙反饋系統(tǒng)確保結(jié)果一致性。
每日維護(hù)
檢查氣體壓力與流量；
清理進(jìn)樣器托盤與燃燒口；
運(yùn)行空白樣確認(rèn)基線。
每周維護(hù)
更換捕水劑與吸附劑；
檢查燃燒管積灰情況；
校驗(yàn)溫度與氣流穩(wěn)定性。
每月維護(hù)
檢測(cè)氣密性與泄漏情況；
清潔檢測(cè)池；
執(zhí)行系統(tǒng)校準(zhǔn)驗(yàn)證。
年度維護(hù)
更換燃燒、還原及分離系統(tǒng)填料；
檢查電路與傳感器性能；
完成全面性能評(píng)估。
應(yīng)用領(lǐng)域：土壤與肥料分析、食品營(yíng)養(yǎng)檢測(cè)、化工材料評(píng)估、煤炭與燃料特性研究、環(huán)境監(jiān)測(cè)等。
擴(kuò)展模塊：可選配氧元素分析單元、自動(dòng)校準(zhǔn)模塊及高通量進(jìn)樣器。
兼容性：可與ICP、TOC分析系統(tǒng)聯(lián)合使用，實(shí)現(xiàn)多元素綜合評(píng)價(jià)。
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