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賽默飛原子吸收光譜儀3300定位于實(shí)驗(yàn)室級別的中高端金屬元素分析設(shè)備，其設(shè)計(jì)旨在滿足多領(lǐng)域痕量、微量金屬元素檢測需求。該設(shè)備具備火焰法、石墨爐法、氫化物發(fā)生法等多種分析技術(shù)路徑，配備高精度光學(xué)系統(tǒng)、智能數(shù)據(jù)處理模塊及強(qiáng)大的背景扣除功能，可廣泛適配環(huán)境監(jiān)測、食品安全、制藥、水質(zhì)分析、地礦與材料等領(lǐng)域。
本節(jié)內(nèi)容從儀器組成、關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)、系統(tǒng)配置和可拓展性等方面展開詳細(xì)介紹。
儀器類型：雙光束原子吸收光譜儀（AAS）
分析模式：支持火焰原子化、石墨爐原子化、氫化物發(fā)生技術(shù)
光路結(jié)構(gòu)：高穩(wěn)定性Czerny-Turner型單色儀
光學(xué)分辨率：0.02nm，全波段自動(dòng)優(yōu)化焦距
波長范圍：190nm–900nm（紫外到可見區(qū)）
波長重復(fù)性：±0.02nm
波長準(zhǔn)確度：±0.05nm，自動(dòng)校準(zhǔn)系統(tǒng)內(nèi)置
燈架配置：6位自動(dòng)旋轉(zhuǎn)型燈架
兼容燈型：空心陰極燈（HCL）與增強(qiáng)型陰極燈（EDL）
燈電流調(diào)節(jié)：支持0~30mA連續(xù)可調(diào)，自動(dòng)設(shè)置最優(yōu)功率
預(yù)熱控制：自動(dòng)定時(shí)預(yù)熱及電流控制系統(tǒng)
切換響應(yīng)時(shí)間：<3秒完成燈位與參數(shù)切換
探測元件類型：光電倍增管（PMT）
動(dòng)態(tài)響應(yīng)范圍：>10?
檢測器噪聲：<0.0005Abs
信號處理方式：模擬+數(shù)字雙通道轉(zhuǎn)換系統(tǒng)
信號采樣速率：每秒1000次
噴霧器材質(zhì)：可更換型鈦合金或塑料噴霧器
燃燒頭類型：100mm標(biāo)準(zhǔn)型/多孔式可選
支持氣體種類：
燃?xì)猓阂胰?、丙?/p>
助燃?xì)猓嚎諝饣蜓鯕?/p>
火焰穩(wěn)定性：<0.5%RSD長期波動(dòng)
火焰保護(hù)機(jī)制：配備熄火檢測、漏氣報(bào)警、自動(dòng)熄火
升溫速率：最大可達(dá)2000℃/秒
最高溫度：3000℃（控溫精度±1%）
升溫階段控制：最多支持10段升溫程序
氣流控制：自動(dòng)切換惰性氣（Ar）吹掃和保護(hù)
進(jìn)樣體積范圍：1~50μL，配套自動(dòng)進(jìn)樣器可微量控制
適用元素：As、Se、Sb、Bi、Sn、Pb等
進(jìn)樣方式：在線氣液混合、氣液分離一體系統(tǒng)
反應(yīng)效率：高靈敏氣相富集通道，增強(qiáng)信號吸收
氣路控制：軟件自動(dòng)調(diào)節(jié)反應(yīng)流速及負(fù)壓負(fù)載
背景扣除方式：
氘燈背景校正（D?）
塞曼效應(yīng)背景校正（適用于石墨爐）
背景校正線性范圍：0–2Abs
響應(yīng)速度：<1s
校正誤差：小于±0.005Abs
該系統(tǒng)能有效處理化學(xué)背景干擾、溶劑發(fā)射干擾及散射干擾，特別適用于復(fù)雜基體樣品分析。
控制軟件系統(tǒng)：Thermo Scientific SOLAAR 或?qū)俣ㄖ破脚_
操作系統(tǒng)兼容性：Windows 10 / 11 64位
支持功能：
元素分析方法預(yù)設(shè)及自定義
自動(dòng)標(biāo)定曲線擬合（線性、多段、曲線等）
自動(dòng)樣品序列運(yùn)行與報(bào)告導(dǎo)出
數(shù)據(jù)追蹤、質(zhì)控監(jiān)測、權(quán)限分級
輸出格式：CSV、PDF、Excel、LIMS兼容格式
曲線類型：線性/對數(shù)線性/分段回歸等
報(bào)告內(nèi)容：吸光度、濃度、檢出限、偏差、回收率、信號曲線等
質(zhì)控功能：
加標(biāo)回收率分析
空白樣監(jiān)測
曲線漂移自動(dòng)報(bào)警
USB端口：支持≥4路，用于燈控制、打印設(shè)備、自動(dòng)進(jìn)樣器
串口/以太網(wǎng)口：連接LIMS系統(tǒng)或?qū)嶒?yàn)室自動(dòng)化平臺
可擴(kuò)展模塊：連接自動(dòng)稀釋系統(tǒng)、自動(dòng)進(jìn)樣器、氣相富集裝置、溫控單元等
自動(dòng)進(jìn)樣器容量：最多可支持120位樣品盤
軟件控制方式：一鍵加載方法、參數(shù)自匹配、定時(shí)運(yùn)行
多任務(wù)管理：支持多個(gè)項(xiàng)目并行排隊(duì)執(zhí)行
溫度：15–35℃
濕度：20%–80%相對濕度（無冷凝）
電源要求：220V±10%，50Hz，最大功率3000W（含石墨爐）
氣源要求：
空氣壓縮機(jī)或空氣泵
乙炔氣源需穩(wěn)壓控制
氬氣純度≥99.99%（用于石墨爐）
噪音水平：<65dB（典型值）
尾氣排放：支持尾氣吸附系統(tǒng)對接排風(fēng)系統(tǒng)，防止有害氣體泄露
軟件層安全設(shè)計(jì)：
操作員權(quán)限設(shè)定
分級登錄與數(shù)據(jù)防篡改機(jī)制
硬件層安全設(shè)計(jì)：
火焰熄滅自動(dòng)關(guān)閉燃?xì)?/p>
石墨爐過溫保護(hù)
電氣短路自動(dòng)斷電
維護(hù)便捷性：
噴霧器與燃燒頭可快速拆卸清洗
自動(dòng)提示燈更換與噴嘴維護(hù)周期
軟件預(yù)設(shè)校準(zhǔn)、清洗、驗(yàn)證步驟
| 技術(shù)參數(shù)類別 | 指標(biāo)說明 |
|---|---|
| 波長范圍 | 190–900nm |
| 波長準(zhǔn)確度 | ±0.05nm |
| 光學(xué)分辨率 | 0.02nm |
| 火焰溫度范圍 | 2300℃–2800℃ |
| 石墨爐控溫精度 | ±1%（升溫階段） |
| 背景扣除方式 | 氘燈與塞曼雙系統(tǒng) |
| 檢測限（火焰） | ≤2μg/L（Pb、Cd等） |
| 檢測限（石墨爐） | ≤0.2μg/L（As、Hg等） |
| 分析速度 | 火焰法≤10s/樣品，石墨爐≤60s |
| 重復(fù)性（RSD） | <1.5% |
| 自動(dòng)化進(jìn)樣 | 支持全自動(dòng)序列控制與清洗 |
| 數(shù)據(jù)接口格式 | CSV、LIMS、PDF、EXCEL |
從整體性能與技術(shù)指標(biāo)來看，賽默飛3300原子吸收光譜儀是一款兼具靈敏度、通用性與穩(wěn)定性的實(shí)驗(yàn)級設(shè)備。其波長范圍廣、原子化模式多樣、數(shù)據(jù)處理智能、背景修正能力強(qiáng)，特別適合以下場景：
高通量檢測實(shí)驗(yàn)室：快速切換元素、穩(wěn)定輸出結(jié)果；
痕量金屬監(jiān)測場景：配合石墨爐和塞曼校正，檢出限優(yōu)異；
復(fù)雜基體樣品分析：背景扣除系統(tǒng)提升數(shù)據(jù)可靠性；
日常質(zhì)量控制與科研應(yīng)用：多任務(wù)管理與質(zhì)控流程兼?zhèn)洹?/p>
其配置支持多項(xiàng)擴(kuò)展模塊連接與軟件智能升級，為實(shí)驗(yàn)室實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化與高效能打下堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。
杭州實(shí)了個(gè)驗(yàn)生物科技有限公司
